导读：
面向液晶用滤色膜的曝光设备“EGIS”采用闪光光源作为曝光光源，可对重复型图样进行曝光。通过高速像素处理，在扫描方向及与扫描垂直的方向上同时对掩膜与基板的图样的贴合位置进行实时控制。最终使精度与生产节拍这一相互对立的要素均衡。本文对“EGIS”曝光设备的开发历程、基本结构、工作原理进行详细解说。并从掩膜尺寸、曝光区域选择、间隙、跟踪精度和曝光时间等方面说明了如何选择掩膜。另外还详细说明了闪光光源的优势及其比较选择，图像边缘的提取与闪光光源触发机制等。
“EGIS”对大型基本特别有效，通常第8代生产线的掩膜运行成本每年为18亿日元，通过投入“EGIS”有可能将第8代生产线的成本削减掉17亿日元左右。经过不断创新努力，“EGIS”型曝光设备在2007年内完成了多台的试制评测，可望在2008年度正式投入量产。
附图： EGIS型设备的基本结构
文章标题：
1.“EGIS”型曝光设备的开发
2.“EGIS”式曝光机的基本结构
3.“EGIS”的工作原理
4.“EGIS”的掩膜
5.采用闪光光源的“EGIS”型曝光设备
6.图样边缘的提取
7.闪光光源的比较
8.形成触发的关键所在
9.总结
图表标题：
图1 大型掩膜的运行成本(每年)预测(以月产3万片为前提)
图2 EGIS技术的引进效果——掩膜成本大幅度下降
图3 与原来曝光方式的比较
图4 EGIS型设备的基本结构
图5 In Situ Local Alignment的概况
图6 即使在横宽(Y)方向上，对准精度也是固定的
图7 最适合大型基板的EGIS设备
图8 EGIS型设备的外观图
图9 对所有重复型图样进行曝光的EGIS技术
图10 EGIS-FL型设备的基本结构
图11 EGIS-FL方式控制系统的基本工作原理
（完整内容请参见《日经FPD》简体中文版杂志——2008“趋势·战略篇”）
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